先进光刻中的流体力学关键问题----液滴撞击壁面

讲座名称：先进光刻中的流体力学关键问题----液滴撞击壁面

讲座人：刘浩然 教授

讲座时间：5月31日16:30-18:00

讲座地点：雁塔校区会议中心303-1

讲座人介绍：

刘浩然，中国科学技术大学近代力学系教授。2016年获得流体力学博士学位，曾先后于中国科学技术大学、荷兰特文特大学进行博士后研究，2022年获得国家高层次人才项目，并入职中国科学技术大学，从事气液固耦合的多相界面流动数值方法发展及流动机理分析研究。曾主持青年项目、面上项目等，发表学术论文30余篇。

讲座内容：

极紫外（EUV）光刻是当前最前沿的芯片制造技术，其光源产生依赖双脉冲打靶产生锡等离子体辐射。然而，打靶后飞散的锡液滴会以不同速度、不同角度撞击光源舱内壁，形成严重的锡污染，严重影响光学元件寿命与光源稳定性。为了有效收集这些锡液滴，需要精准预测并控制液滴在壁面上的撞击行为。基于此背景，本报告系统报道了液滴撞击壁面后的动态演化过程，包括复合液滴的撞击与反弹，高速液滴撞击壁面过程，液滴撞击软物质壁面等系列问题。通过高精度数值模拟与理论分析，详细解析了液滴撞击行为，为EUV光源舱内锡污染控制与回收系统的优化设计提供关键流体力学支撑。

主办单位：信息力学与感知工程学院

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